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注射混懸液膠體磨
詳細信息| 詢價留言品牌:IKN 型號:CM2000 工作方式:顆粒研磨機 類型:轉軸式研磨機 適用物料:注射混懸液 應用領域:醫藥 加工批量:1000 驅動功率:22 kw 研磨籃容量:1000 L 介質尺寸:100 mm 行程:100 mm 外形尺寸:1-1-1 m 重量:100 行程:100 mm 外形尺寸:1-1-1 m 注射混懸液膠體磨,注射混懸液高剪切膠體磨,混懸液膠體磨,混懸液高剪切膠體磨,注射混懸液在線式膠體磨
液體藥劑中的藥物可以是固體、液體或氣體,在一定條件下分別以分子或離子、膠粒、顆粒、液滴狀態分散于液體分散媒(溶劑,下同)中組成分散體系。如分散相以分
子或離子狀態分散于液體分散媒中者稱為溶液(真溶液),其中溶質分子量小的稱為低分子溶液;溶質分子量大的(如蛋白質類)則稱為高分子溶液。膠體溶液除了高分子溶液以外,還包括溶膠,它由多分子聚集體作為分散相的質點,分散在液體分散媒中。如果以固體顆;蛞旱畏稚⒂诜稚⒚街校w;蛞旱闻c分散媒之間有相界面,前者稱為混懸液,后者稱為乳濁液。
根據分散相粒子大小及分散情況的不同,將液體藥劑分為溶液型、膠體溶液型、混懸液型、乳濁液型四類。按應用方法,液體藥劑可分為內服、外用和注射三大類。包括多種劑型,內服的如合劑、溶液劑等;外用的如洗劑、搽劑、含漱劑、滴鼻劑等等。
液體藥劑中的分散介質統稱為分散媒,被分散的藥物稱為分散相。其中溶液型和膠體溶液型藥劑的分散媒亦稱為溶劑;乳濁液型藥劑的分散媒又稱為外相或連續相。
混懸液的貯存存在物理穩定性問題。混懸液中藥物微粒分散度大,微粒與分散介質之間存在著物理界面,使混懸微粒具有較高的表面自由能,混懸劑處于不穩定狀態。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩定性問題。
若要制得沉降緩慢的混懸液,應減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。實驗工作中主要應用前兩種手段增加穩定性。怎樣減少顆粒的大小,使混懸液的狀態更加穩定呢?
對于混懸液的處理,IKN工程師通常建議選擇CMD2000系列研磨分散機,在醫藥行業通常稱為混懸液膠體磨。 李佩佩
注射混懸液膠體磨(CMD研磨分散機)是由膠體磨+分散機組合而成的高科技產品。*高轉速可達14000rpm/min。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。
CMD2000系列研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
型號
流量
L/H
轉速
rpm
線速度
m/s
功率
kw
入/出口連接
DN
CMD2000/4
300
9000
23
2.2
DN25/DN15
CMD2000/5
1000
6000
23
7.5
DN40/DN32
CMD2000/10
2000
4200
23
22
DN80/DN65
CMD2000/20
5000
2850
23
37
DN80/DN65
CMD2000/30
8000
1420
23
55
DN150/DN125
CMD2000/50
15000
1100
23
110
DN200/DN150
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到*大允許量的10%。
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