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納米研磨分散機，納米高速研磨分散機，納米淹沒設備，10000轉研磨設備
納米材料研磨分散機，納米高剪切研磨分散機，超高速納米研磨分散機，研磨分散機(專利 ZL201520918133.7)

納米研磨分散機適合處理比較難以分散的納米材料，超高的轉速及特殊設計的工作頭結構都是納米研磨分散機在市場上備受推廣的關鍵，研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

納米研磨分散機是將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。    

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。

納米研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到*低，保證機器連續24小時不停機運行。

納米研磨分散機，有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送。 

研磨分散機的特點：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CMD2000系列設備選型表

1.表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2.處理量取決于物料的粘度，稠度和*終產品的要求。

3.如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。

4.本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準.納米研磨分散機，納米高速研磨分散機，納米淹沒設備，10000轉研磨設備
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